WEC001-GT4 全胚回転培養システム
当社のエンジニアは、毒性学、げっ歯類の発生・細胞培養、ヒトオルガノイド、ヒト幹細胞分化の研究者と協働しています。その知見を各世代の改良に反映し、再現性の高い解析を支える信頼性の高い培養プラットフォームを提供します。
O₂ 独立制御
制御範囲 0～100%、安定性 ±0.3% vol
CO₂ 独立制御
制御範囲 0～100%、安定性 ±0.1% vol
N₂ 独立制御
制御範囲 0～100%、安定性 ±0.1% vol
標準ガスボンベを接続して使用可能
高純度酸素ボンベ（≥99.99%）に対応
40% 酸素ボンベにも対応
圧力制御範囲：0.0～20.0 psi
0.1 psi 単位で調整、圧力分解能 0.001 psi
加圧密閉システム設計
圧力安定性 ±0.2 psi
必要なガス比率を設定
デジタル調整、分解能 0.1%
高酸素・低酸素条件を迅速に調整
酸素調整範囲 0～100% vol
最大耐圧：0.21 MPa
* BottleKP2 システム、WEC001-GT4 での実測値
BTC 規格に基づく薄壁透明底
1979年 BTC ゴールドスタンダードを継承した容器形状
最大 9 mL の高透明ガラス容器
肉眼または顕微鏡で鮮明に観察
能動的な栄養供給
専用マイクロチャネルで栄養を供給
単軸ガス分配回転ユニット
圧力維持・着脱式設計
* DishKP2 サブシステムに基づき、チャンバー全体で密閉環境の圧力を安定化
個別容器を着脱可能
培養システム圧力を変化させずに操作
圧力変動と培地の飛散を低減
いつでも接続可能
静的培養条件との比較
BallScope サブシステムを Adawarbler システムに接続し同期培養が可能
静的培養観察チャンバー
BallScope
連続水平振とう培養にも対応
より実環境に近い
生体内マイクロ環境圧力を再現
培養物をいつでも取り出し、実体顕微鏡または共焦点顕微鏡で観察可能
細胞培養プレートに対応
または培養ディッシュ
ANSI 規格を1枚以上収容